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Nb+C离子注入磁过滤真空电弧镀TiAlN薄膜研究

刘红亮 陶冶

物理测试

利用MeVVA离子源技术对阴极磁过滤真空弧沉积的TiAlN薄膜进行了不同注入剂量的Nb及Nb+C离子注入。采用EDS、TEM、GIXRD、显微硬度等测试方法研究了离子注入剂量对于薄膜微观结构和性能的影响。结果表明，注入剂量为Nb5×1017 ions/cm2+C5×1017 ions/cm2时，Nb...

关键词: 离子注入 , TiAlN film , amorphous , nano crystalline