王兵
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熊鹰
,
黎明
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李凯
材料科学与工艺
为确定两种典型的反应气源对制备纳米金刚石膜的影响,分别以CH_4/Ar/H_2及CH_4/N_2混合气体作为反应源,用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)法制备纳米金刚石薄膜.XRD和Haman分析表明两种气源条件下得到的膜材均为金刚石多晶膜,但用CH_4/N_2气为反应源沉积的膜材中非金刚石相成分明显更多;AFM和SEM对照分析证实所有膜层的平均晶粒尺寸及表面粗糙度均在几十纳米量级,但CH_4/N_2气源沉积的膜中容易形成异常长大的晶粒,不利于表面质量的提高.研究结果表明,以CH_4/Ar/H_2混合气体作为反应气源可制备物相组成纯度更高、表面形态更为优越的纳米金刚石膜.
关键词:
化学气相沉积
,
金刚石
,
纳米膜
,
气源
王照亮
,
孙铭蔓
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姚贵策
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梁金国
工程热物理学报
纳米薄膜与基体之间的界面热输运是MEMS系统热管理和热设计的热点和难点.建立了频率扫描3ω法的热阻抗网络模型.利用频率-电流扫描3ω法和不同厚度薄膜试样得到单层纳米薄膜与基体之间的界面热阻.ZrO2、SiO2增透膜与基体之间的界面热阻分别为0.108 m2·K·MW-1和0.066 m2·K·MW-1.发现界面热阻与扫描频率无关,未发现界面热阻随膜厚变化的尺度效应.实验和理论分析表明,声子近界面效应在增透膜和基体界面的热输运过程中起主导作用.
关键词:
纳米薄膜
,
界面热阻
,
频率扫描3ω法
,
电流扫描3ω法
,
声子近界面效应
