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基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响

张湘辉 , 汪灵 , 龙剑平 , 邓苗 , 冯珊

功能材料

采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,当开环流量不同时,在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD、激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相和品质进行了分析。研究结果表明,当开环流量从10→5→15→20mL/min变化时,所制备纳米金刚石薄膜的表面粗糙度及石墨成分会随之增加,金刚石晶粒转变为以(110)面生长为主,且尺寸增大;并加剧了硬质合金基体中Co相粘结剂向基体表面的扩散。温控中基底温度的波动(稳定性)是影响纳米金刚石薄膜生长性能的主要原因。

关键词: 直流弧光放电等离子体化学气相沉积法 , 纳米金刚石薄膜 , 基底温度 , 开-闭环复合控制

正偏压对纳米金刚石薄膜结构和电阻率的影响

吴南春 , 夏义本 , 谭寿洪 , 刘健敏 , 苏青峰 , 王林军

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2007.00381

采用电子辅助热丝化学气相沉积工艺, 在1kPa反应气压和施加不同的偏流条件下, 沉积了纳米金刚石薄膜. 用X射线衍射, 场发射扫描电镜和半导体特性表征系统对该薄膜进行了表征和分析. 结果表明, 施加偏流可以使薄膜晶粒呈现明显的(110)晶面择优取向, 表面形貌发生较大变化. 当偏流为8A时, 薄膜晶粒达到最小值, 约为20nm, 薄膜表面也最光滑. 本文讨论了在低气压和电子轰击条件下(110)晶面择优取向的形成机制及其对薄膜显微形貌和电阻率的影响关系.

关键词: 纳米金刚石薄膜 , preferential orientation , morphology , electrical properties

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