高芳亮李生英陈宏基吴忠华李志宏
材料研究学报
用旋涂工艺和致孔法制备了一组聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜, 用红外吸收光谱(FT--IR)、热重分析(TGA)对其进行表征, 用同步辐射光源进行小角X射线散射测试, 在掠入射模式(GISAXS)下进行微孔结构分析。结果表明, 聚甲基硅氧烷前驱体与致孔剂具有良好的相容性; 薄膜的小角散射曲线均不遵守Porod定理、形成正偏离；所有纳米多孔薄膜具备孔分形特征; 薄膜基体与孔结构之间存在微电子密度起伏, 且薄膜孔径小于3 nm。
关键词:
有机高分子材料
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poly(methyl)silsesquioxane
,
grazing–incidence small angle x–ray scattering
,
nanoporous thin film, pore structure
,
null
