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基于紫外臭氧光照技术的PDMS表面改性参数研究

张雅雅 , 崔建国

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.03.015

目的：聚二甲基硅氧烷( PDMS)作为微流控芯片研制中常用的高分子材料，其本身的疏水特性是影响微流控芯片整体键合效果的主要障碍。为了在短时间内成功实现PDMS与基底材料的有效键合与封装，设计一种可在普通实验室开展的低成本且高效的PDMS材料改性方法。方法基于紫外臭氧光照改性法对PDMS材料表面进行改...

关键词: 表面改性 , 紫外臭氧光照 , 聚二甲基硅氧烷 , 键合强度 , 最优工艺参数