李渊
,
王文文
,
张俊英
功能材料
采用直流磁控溅射法制备了掺钨氧化铟（In2O3：W,IWO）薄膜,研究了制备工艺对薄膜表面形貌和光电性能的影响。结果表明薄膜的表面形貌与其光电性能有着紧密联系。氧分压显著影响薄膜的表面形貌进而对薄膜的光电性能产生影响,同时溅射时间的变化也显著影响薄膜的光电性能：随着氧分压以及溅射时间的升高,薄膜的电...
关键词:
In2O3∶W薄膜
,
直流磁控溅射
,
氧分压
,
溅射时间
,
表面形貌
,
光电性能
王英华
,
王新昌
,
李光明
,
张兵临
,
田永涛
,
姚宁
人工晶体学报
利用未采用催化剂的真空热蒸发法合成了不同形貌的硅基ZnO纳米结构,研究了氧分压对纳米ZnO结构及光学性能的影响.研究结果表明氧分压对ZnO纳米结构的形貌及光学性能具有明显的影响,在氧分压为25%、10%和5%时制得的纳米ZnO结构分别为纳米线、纳米带和纳米梳.X射线衍射测试表明制得的不同ZnO纳米材...
关键词:
热蒸发沉积法
,
ZnO纳米结构
,
氧分压
,
形貌
,
光学性能
孙建明
,
周婷婷
,
任庆荣
,
胡合合
,
陈宁
,
宁策
,
王路
,
刘文渠
,
李东升
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20163106.0558
采用标准的液晶显示屏基板制备工艺制备出铟镓锌氧薄膜晶体管(IGZO-TFT),通过调节 IGZO 薄膜工艺中氧分压,研究不同氧分压对TFT器件电学性能的影响.实验结果表明,所有器件都展现出良好的电学特性,随着氧分压从10％增加到50％,TFT的阈值电压由0．5 V增加到2．2 V,而亚阈值摆幅没有发...
关键词:
铟镓锌氧薄膜晶体管
,
氧分压
,
阈值电压漂移
,
电子积累层
成日金
,
倪红卫
,
张华
,
贾绍凯
,
熊珊
钢铁
doi:10.13228/j.boyuan.issn0449-749x.20160389
为了研究铁矿石烧结及除尘灰焙烧脱砷问题,运用FactSage软件研究了不同氧分压、温度及碱度对含砷铁矿石烧结脱砷率、砷平衡组成、脱砷最终形态的影响,并对除尘灰焙烧脱砷流程进行热力学研究.结合烧结杯进行烧结试验,并在多气氛下利用焙烧除尘灰试验进行验证,运用XRD、SEM及EDS对矿相进行分析.结果表明...
关键词:
含砷铁矿石
,
烧结
,
氧分压
,
热力学
,
除尘灰
蔡斌利
,
李红霞
,
赵世贤
,
孙红刚
,
王刚
,
曹战民
耐火材料
doi:10.3969/j.issn.1001-1935.2016.06.003
为了确定水煤浆气化炉内O2分压,探究该气氛中Cr2O3的稳定性,首先根据不同厂家水煤浆气化炉合成气的化学组成,使用热力学软件Factsage6.4计算了1 300～1 600℃水煤浆气化炉内的O2分压,然后又计算了不同条件下Cr2O3蒸发形成的各种气体的分压及总蒸气压的变化.结果表明:随着温度的升高...
关键词:
水煤浆气化炉
,
热力学计算
,
氧分压
,
Cr2O3稳定性
,
优势区图
李杨
,
肖鹏
,
李专
,
罗威
,
周伟
中国有色金属学报(英文版)
doi:10.1016/S1003-6326(17)60045-1
为提高炭/炭(C/C)复合材料的高温抗氧化性,采用包埋–刷涂法在其表面制备SiC/ZrSiO4?SiO2(SZS)复合涂层.研究SZS复合涂层包覆C/C复合材料在1500℃下不同氧分压测试环境下的抗氧化性能以及1500℃至沸水(100℃)的热循环性能.结果表明:SZS复合涂层试样具有优异的高温抗氧化...
关键词:
C/C复合材料
,
SiC/ZrSiO4?SiO2复合涂层
,
氧分压
,
抗氧化性能
,
热震性能
,
残余压缩强度
李明亚
,
叶成立
,
刘俊
人工晶体学报
在Bi-2223相的生成过程中,氧起到非常重要的作用.对Bi-2223/Ag带材而言,氧能够透过银包套在超导芯与外部环境气氛之间进行交换,因而,超导芯处的氧与气氛中氧含量相近.而对于Bi-2223/Ag/Ni带材而言,外层的包套材料为镍,氧不能扩散通过镍包套.为了使氧能够在超导芯与环境气氛之间进行交...
关键词:
Bi-2223/Ag/Ni带材
,
热处理
,
氧分压
