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化学镀钯工艺及镀层性能研究

李伟 , 王钰蓉 , 王文昌 , 陈智栋

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2015.12.003

利用在酸性镀钯液中进行化学镀的方法,在Ni-P合金基底上获得了性能优异的钯镀层.通过研究镀液参数对钯沉积速度、镀层外观及表面形貌的影响,确定最佳工艺条件为1.0 g/L PdCl2、20 g/L三乙醇胺、8g/L柠檬酸铵、θ为65℃、pH 2.0.并对在最佳工艺条件下得到的镀层进行了耐蚀性、可焊性的测试.研究表明,镀层具有优异的可焊性、耐蚀性.

关键词: 化学镀 , 钯镀层 , 可焊性 , 耐蚀性

钯膜上CVD法制备碳纳米管薄膜的研究

曹章轶 , 王红光 , 华缜 , 孙卓

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.04.006

采用化学气相沉积法,以乙炔为碳源,在各种钯膜上制备了碳纳米管薄膜.通过电子显微镜观察了碳管薄膜和钯膜的表面形貌.结果表明,在真空气氛下磁控溅射的钯膜上无法生长碳纳米管.对溅射的钯膜进行大气气氛下的退火处理,则可生长出稀疏的碳纳米管团聚颗粒.采用在氧气气氛下磁控溅射的钯膜作为催化剂,则可显著提高碳管的生长密度和纯度,从而获得致密均匀的碳纳米管薄膜.

关键词: 碳纳米管 , 钯膜 , 化学气相沉积

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