曾海军
电镀与涂饰
介绍了一种高透光、电阻小，可用于触摸面板大型化的透明导电性薄膜的制造工艺，即在 PET(聚对苯二甲酸乙二酯)薄膜上形成肉眼不可见的铜网。其工艺流程主要包括低温等离子体表面清洗，磁控溅射Ni-Cr过渡层及Cu植晶层，硫酸盐镀铜层，光刻。所得铜布线薄膜的性能超过了一般ITO(氧化铟锡)膜的性能。
关键词:
触控面板
,
铜布线薄膜
,
聚对苯二甲酸乙二酯
,
磁控溅射
,
电镀铜
,
光刻
,
表面电阻
姚树寅
,
晏海英
,
吴仲岿
,
陈红
材料科学与工程学报
随着微加工技术的发展,在材料表面构筑功能化的纳微米级图案越来越成为关注的热点.在生物科学领域,光刻蚀、微接触印刷和蘸笔纳米平板印刷等微图案技术被广泛应用并实现了生物分子在几十纳米微区域上的固定.生物分子在微纳米区域内的成功固定大大推动了生物微分析、生物芯片、生物微器件等生物技术及相关领域的发展.本文从分析生物分子与材料表面的相互作用入手,较为系统地评述了构筑生物分子微图案的几种重要方法,并对生物分子微图案技术的发展做了展望.
关键词:
生物分子微图案
,
光刻蚀
,
微接触印刷
,
蘸笔纳米平板印刷技术
谢文
,
刘建国
,
李平
影像科学与光化学
本文合成了N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺单体,并将其与N-苯基马来酰亚胺共聚得到共聚物聚N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(NCMA-co-NPMI)).将此共聚物作为成膜树脂,与感光剂、溶剂等复配得到一种新型耐高温紫外正型光刻胶.本文探讨了该光刻胶的最佳配方组成和最佳光刻工艺.最佳配方组成为:15%-20%成膜树脂,4.5%-6% 感光剂和70%-80%溶剂;最佳光刻工艺为:匀胶30 s(4000 rpm),前烘4 min(90 ℃),感度为30-35 mJ/cm~2,在0.2%TMAH溶液显影10 s和后烘2 min(90 ℃).
关键词:
紫外正型光刻胶
,
光刻
丁彬
,
程现铁
,
徐国庆
,
张宏
人工晶体学报
提出了一种用于大规模多晶硅太阳能电池生产的制绒工艺,采用负性光刻胶作为湿法刻蚀的掩膜,制备蜂巢状低反射率绒面.通过研究氢氟酸/硝酸溶液中各向同性刻蚀时腐蚀坑的形成过程,发现随着刻蚀时间的增加,在掩膜图形的开孔下逐渐形成六方分布的球面形状的腐蚀坑,腐蚀坑的深径比(深度/开孔直径)出现先上升然后下降的趋势.同理论计算值对比发现,随着刻蚀时间增加,掩膜和硅片的附着紧密性及掩膜的阻挡效应降低,酸液可能渗入了掩膜和硅片的界面,横向刻蚀速度快速上升,降低了深径比,导致实际的反射率高于理论计算值.尽管如此,本文还是成功制备了孔径15微米的蜂巢状绒面,反射率达到了22.9％.
关键词:
多晶硅太阳能电池
,
表面制绒
,
湿法刻蚀
,
光刻法
,
负性光刻胶
宋泳锡
,
劉聖烈
,
柳在一
,
張炳鉉
,
李禹奉
,
李貞烈
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2006.05.009
为了获得更高性能的TFT-LCD面板,在光刻时保证精细的图形成像十分重要,其中,如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一.本文提供的研究中,我们只简单地改变了一下烘烤工艺,而不需要改变Eop和显影时间,就可以将通孔图形的尺寸减小20 %～25 %.在后续的刻蚀工艺中,通孔的尺寸能显著减小.
关键词:
TFT-LCD
,
光刻
,
通孔图形
,
尺寸
朱丹阳
,
金锐
,
吴作林
,
韩宝春
,
杨正华
,
张春华
应用化学
doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2017.03.160195
选用2,2'-双三氟甲基4,4'-联苯二胺(TFDB)与二苯醚四甲酸二酐(ODPA)作为聚合物的基本骨架进行缩聚反应生成聚酰胺酸,再经过化学亚胺化得到可溶性聚酰亚胺(PI).通过调节2-甲基吡啶在亚胺化试剂中的含量以达到控制酰亚胺化程度的目的,探讨不同亚胺化程度的PI胶的显影性能.结果表明,当n(2-甲基吡啶)∶n(乙酸酐)=1∶5时,所合成的光敏聚酰亚胺的显影性能最优.
关键词:
正性光敏聚酰亚胺
,
化学亚胺化
,
溶解性
,
光刻
