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光敏引发AM/DAC共聚的竞聚率测定和序列分布

李万捷 , 姚婷 , 郑玉刚

高分子材料科学与工程

以丙烯酰胺(AM)和丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DAC)为单体,2,2’-偶氮二异丁基脒盐酸盐(V-50)为光敏引发剂,在紫外光照射下进行水溶液聚合,采用Fineman-Ross、Kelen-Tudos及Yezrielev-Brokhina-Roskin法计算了单体竞聚率,得出光敏引发条件下,AM和DAC的竞聚率分别为2.2784和0.3836。分析了单体组成、共聚物瞬时组成随转化率变化的关系及共聚物主链的序列长度分布,得出采用AM起始物质的量比为0.8且总转化率在80%以下的合成工艺条件,可得到组成相对均一的AM/DAC共聚物。运用差示扫描量热仪对共聚物结构进行分析表征,表明所得聚合物是AM/DAC共聚物。

关键词: 丙烯酰胺 , 丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵 , 光敏引发聚合 , 竞聚率 , 序列分布

纳米SiO2的光敏改性及在光固化复合涂层中的应用

韦军 , 路璐

高分子材料科学与工程 doi:10.16865/j.cnki.1000-7555.2017.02.007

以六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、4,4’-二羟基二苯甲酮(DHBP)、N-甲基二乙醇胺(MDEA)为原料,合成出主链含有夺氢型光引发剂以及共引发剂胺结构的NCO封端的聚氨酯预聚体,将预聚体接枝到纳米SiO2表面,得到具有聚氨酯结构的光敏性纳米SiO2 (PU-photo-SiO2),然后将其添加到聚氨酯丙烯酸酯树脂(PUA)中制备出光固化复合膜.红外光谱证实了PU-photo-SiO2的成功合成;扫描电镜、热重分析、冲击强度等研究表明,PU-photo-SiO2与光固化PUA树脂的相容性较好,利于提高光固化膜的热稳定性和力学性能.

关键词: 光敏性 , 纳米siO2 , 聚氨酯丙烯酸酯 , 光固化

光敏性不饱和聚酯绝缘浸渍树脂的研究

徐黄忠 , 马苗 , 莫东惠 , 陈明 , 汪福林

绝缘材料 doi:10.16790/j.cnki.1009-9239.im.2016.12.006

采用4,4′-二氨基二苯甲烷对不饱和聚酯进行改性,对制备树脂的原料、稀释剂及引发剂进行了筛选与优化,制备了R-510-UV耐热光敏绝缘浸渍树脂,并对树脂的性能进行了分析研究。结果表明:R-510-UV树脂固化工艺性好,180℃粘结强度高于25 N,具有柔韧性高、绝缘性能优异的特性,综合性能达到国外同类产品水平。

关键词: 光敏性 , 不饱和聚酯 , 耐热改性 , 绝缘浸渍树脂

光敏性纳米SiO2的制备与应用

路璐 , 韦军

涂料工业

首先以甲苯二异氰酸酯(TDI)与夺氢型光引发剂4,4'-二羟基二苯甲酮(DHBP)以及共引发剂N-甲基二乙醇胺(MDEA)合成了主链含有光引发剂及共引发剂胺的—NCO封端的光敏性聚氨酯预聚体,后利用活性端—NCO与硅羟基反应将光敏性预聚体接枝到纳米SiO2表面,最后将光敏性纳米SiO2分散到聚氨酯丙烯酸酯(PUA)中,用光固化法制备了PUA/纳米SiO2杂化膜.通过红外光谱和核磁共振氢谱证实了光敏性纳米SiO2的分子结构,以热失质量法、紫外光谱仪等研究了光固化涂膜的性能.结果表明,光敏性纳米SiO2可显著提高光固化涂膜的热稳定性和机械性能,并且涂膜的透明性优于添加未改性纳米SiO2的涂膜.

关键词: 光敏性 , 纳米SiO2 , 聚氨酯 , 光固化

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