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钢铁基体上HEDP体系无氰滚镀铜工艺

范小玲 , 谢金平 , 黄崴 , 曾振欧

电镀与涂饰

探讨了HEDP(羟基乙叉二膦酸)溶液体系滚镀铜工艺的可行性。通过正交试验和单因素实验研究了配位剂含量、主盐含量、电流、温度、装载量和施镀时间对滚镀铜的影响,得到最佳配方和工艺条件为:HEDP 120 g/L,CuSO4·5H2O 16 g/L,K2CO360 g/L, pH 9.5,温度50°C,阴极电流2.0 A,滚筒转速15 r/min,装载量50 g/筒。在该条件下滚镀1 h,可获得高、低电流密度区平均厚度分别为7.39μm和1.60μm,与钢铁基体结合良好的半光亮铜镀层。该滚镀铜工艺基本满足预镀铜的要求,但对有光亮度要求的产品,需要往镀液中加入适量添加剂HEAS。

关键词: 无氰镀铜 , 羟基乙叉二膦酸 , 滚镀 , 结合力 , 镀速

镀液组分含量对Ni-P化学镀镀速的影响

黄方意 , 时家明 , 袁忠才 , 汪家春 , 许波 , 陈宗胜 , 王超

兵器材料科学与工程

利用化学镀制得Ni-P化学镀层,研究镀液组分含量对Ni-P化学镀镀速的影响规律.结果表明:Ni-P化学镀镀速随主盐NiSO4·6H2O、还原剂NaH2PO2·H2O、络合剂C6H8O7·H2O及缓冲剂CH4COONa含量的增加而先增加后降低;当NiSO4·6H2O,NaH2PO2·H2O和C6H8O7·H2O的质量浓度为30,20,10 g/L,Ni-P化学镀镀速的最大值为15.3,19.1,18.4μm/h;当CH4COONa的质量浓度16~20 g/L,Ni-P化学镀的镀速变化不大,平均镀速为15.6μm/h.

关键词: Ni-P化学镀 , 组分 , 镀速 , 影响

Ni-Zn-P三元合金化学镀镀液配方优化研究

张永君 , 赵翠玲 , 李茂东 , 马括 , 王磊 , 倪进飞 , 夏兰梅

腐蚀学报(英文) doi:10.11903/1002.6495.2015.196

研究了镀液配方对化学镀Ni-Zn-P三元合金施镀效果的影响,探明了镀速、镀层硬度及其腐蚀防护性,以及镀层Ni,Zn和P含量的变化规律,确定了含Zn 9.50~16.57和P 7.55~13.59(质量分数,%)的Ni-Zn-P镀层制备工艺.对典型试样进行了SEM和XRD分析以及耐酸、耐碱及耐盐溶液腐蚀性能测试,结果表明:镀层表面平整、均匀,结构致密,具有典型的胞状/球状及条带状微观形貌;镀层主要由非晶、微晶或其混合相组成,其中Zn和P固溶于fcc的Ni晶格中;镀层耐盐、耐碱腐蚀能力较强.

关键词: 化学镀 , Ni-Zn-P合金 , 镀液配方 , 镀速

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