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高分子基材料表面改性研究进展

高原 , 邢安 , 殷军港 , 秦晓刚 , 刘惠涛

高分子材料科学与工程

大多数高分子材料表面硬度低、耐划伤性能差,影响了其使用寿命和应用范围。在高分子基体材料表面制备防护薄膜是一种简单有效的解决方法,成为表面防护的研究热点。然而,大多数高分子及其复合材料的表面自由能低,薄膜与基体问固有的界面粘附力较差,制约了其实际应用。文中探讨了机械啮合、化学键合和热力学粘附等三种主要的粘附机理,阐述了高分子基体材料表面改性的研究进展,指出了不同改性方法的优缺点,提出了薄膜界面粘附力研究存在的问题和发展方向。

关键词: 高分子基体 , 表面改性 , 薄膜 , 粘附机理

薄膜厚度和溅射功率对有机衬底上ZnO∶Ga薄膜应力的影响

张哲浩 , 吕建国 , 江庆军 , 叶志镇

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2016.03.002

在室温(RT)下,采用直流(DC)磁控溅射在聚碳酸酯(PC)衬底上制备Ga掺杂ZnO(GZO)薄膜.通过X射线衍射(XRD)与基片曲率方法研究薄膜的残余应力.提出并讨论了厚度和溅射功率对GZO薄膜的应力影响并证实所有薄膜的应力均是压缩应力.研究表明随着薄膜厚度的增加,外应力可以得到充分释放.而溅射功率的变化可以改变GZO薄膜的应力和晶粒尺寸.研究表明溅射功率在140W的条件下制备的厚度225nm薄膜具有最大的晶粒尺寸和最小的压缩应力.结果表明改变溅射参数,比如溅射功率和薄膜厚度,GZO薄膜能够有效地释放应力.

关键词: ZnO∶Ga薄膜 , 应力 , 基片曲率法 , 直流磁控溅射 , 有机衬底

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