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中温锌-锰系黑磷化液的制备及研究

曾宪光 , 郑兴文 , 王红 , 附青山

腐蚀与防护 doi:10.11973/fsyfh-201506008

研究了一种中温锌-锰系黑磷化配方及工艺.通过正交试验法确定了最佳黑磷化液配方及工艺:马日夫盐60.0 g/L,硝酸锌35.0 g/L,硝酸镍20.0 g/L,氯酸钾6.0 g/L,柠檬酸1.0 g/L,硝酸锰20.0 g/L,十二烷基苯磺酸钠为0.4 g/L,施镀时间为30min,温度为60 C,pH为2.5.并考察了镀层的形貌、硬度、厚度以及耐蚀性能.该工艺用于钢铁件涂装前的表面预处理,具有溶液稳定、附着力强、耐蚀性好等特点.

关键词: Q235钢 , 锌-锰系 , 黑磷化液 , 工艺条件 , 耐蚀性

工艺条件对丙烯酸酯-苯胺共聚乳胶涂层防腐性能的影响

李玉峰 , 王迪 , 祝晶晶 , 王春庆 , 樊丽权 , 刘喜军

涂料工业

在丙烯酸酯乳液中引入苯胺单体,采用原位乳液聚合法制备了丙烯酸酯-苯胺共聚乳液,分析了共聚机理,详细研究了反应温度、反应时间、共聚乳液中乳化剂种类、乳化剂用量、引发剂与苯胺的物质的量比[n(APS)∶n(An)]等条件对共聚乳液性能及乳胶涂层防腐性能的影响.对制备的共聚乳胶涂层进行了电化学阻抗谱(EIS)、塔菲尔曲线(Tafel)、开路电位(OCP)等测试,通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线能谱(EDS)对腐蚀表面进行了分析.结果表明:丙烯酸酯-苯胺共聚乳胶涂层可以使金属基材表面形成钝化膜,且当反应温度为10℃,反应时间为5h,乳化剂十二烷基苯磺酸钠(SDBS)用量占乳液总质量的2%,引发剂与苯胺的物质的量比为1.5∶1时,共聚乳液的性能及其乳胶涂层防腐蚀性能最佳.

关键词: 丙烯酸酯 , 苯胺 , 共聚 , 乳胶涂层 , 工艺条件 , 防腐蚀

宽幅AZ31B铸轧镁合金温轧工艺条件的组织性能

刘鹏涛 , 马立峰 , 贾伟涛 , 徐海洁 , 蒋亚平

材料热处理学报

在温度范围为300~450℃,压下率为20%~40%,轧制速度为0.1~0.8 m/s工艺条件下对宽幅AZ31B铸轧镁合金进行了多组温轧试验,而后对轧后的镁板分别进行室温拉伸,并用光学显微镜观察各条件轧制后的组织形态,用SEM观察拉伸试样断口形貌,同时进行往复摩擦实验.研究表明:轧制温度为350℃,轧制速度为0.1 m/s,压下率为30%时可以获得很好的断裂强度,在此温轧条件下镁合金板材的耐磨损系数增加了80%;温度为450℃,轧制速度为0.8 m/s,压下率为40%时可以获得很好的塑性变形能力;压下率超过30%之后,晶界处容易产生位错塞积,导致累积变形量增加及内应力激增,是镁合金边部产生微裂纹进而形成断裂失效的主要原因.

关键词: 宽幅AZ31B铸轧镁合金 , 温轧 , 抗拉强度 , 塑性变形能力 , 工艺条件

Mg-25La中间合金无熔剂保护熔炼工艺研究

胡文鑫 , 陈国华 , 杨正华

稀有金属 doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.01.002

以镁合金专用熔炼炉为设备,在SF6+ N2保护气氛下对熔炼过程中熔炼温度、物料加入速率、熔炼时间、浇铸温度以及保护气中SF6浓度对合金收率、合金元素La收率、合金元素La偏析程度等制备工艺技术指标的影响进行研究,确定Mg-25La中间合金的高品质制备工艺条件为:熔炼温度685~ 695℃、物料加入速率为30 g·min-1、熔炼时间90 min、浇铸温度680℃以及保护气中SF6浓度为0.1%(体积分数).基于以上工艺条件所获得合金元素收率大于98%,上部及下部的稀土元素成分比为0.99∶1.00,偏析程度为±0.3%~0.6%(质量分数);组分中稀土元素含量为25.0%±0.5%(质量分数),合金内部无氧化缺陷、气孔,合金组分均一,成分稳定.通过对合金所进行的X射线衍射(XRD),能谱(EDS)及扫描电镜(SEM)分析可知,当镧元素含量为25.0%时,合金中出现连续分布的Mg17 La2共晶相,近似网状分布,且尺寸粗大.同时在晶粒内部及晶界之上出现一定数量的、分布不均匀细小第二相颗粒Mg2La相,该相与Mg17 La2相同为Mg-25La中间合金的重要强化相.

关键词: Mg-25La中间合金 , 无熔剂熔炼 , 工艺条件 , 铸锭组织结构

金属基带的连续非接触式电化学抛光

高永超 , 程好 , 杨淑平 , 庄维伟 , 蔡渊 , 张国栋

表面技术

目的 研发一种适合工业生产连续带材的非接触式电化学抛光方法.方法 采用以磷酸-硫酸为主要氧化剂的环保型电化学抛光液对金属基带进行电化学抛光,研究阳极电流密度(JA)、电解液温度(t)、基带与电极间的距离(L)和走带速度(v)对基带表面粗糙度的影响,优化抛光工艺条件.结果 优化的工艺条件如下:JA为1500 ~ 2500 A/m2,t为40 ~ 80℃,L为4~12 mm,v为0.5~1.8 m/min.在此工艺条件下进行电化学抛光,极为有效地降低了金属基带的表面粗糙度,光亮度达到镜面状态,原子力显微镜测试5μm×5μm范围内的表面平均粗糙度值低于1.0 nm.结论 该抛光工艺实现了千米级基带的连续性抛光,达到工业化生产要求.

关键词: 非接触式 , 电化学抛光 , 工艺条件 , 平均粗糙度

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