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基于SVR的脉冲激光沉积TiN/AlN多层薄膜的工艺优化

皇思洁 , 蔡从中 , 曾庆文

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.14.022

根据脉冲激光沉积(PLD)法在单晶Si试样表面沉积制备多层TiN/AlN硬质膜实验数据,应用基于粒子群算法(PSO)寻优的支持向量回归(SVR)方法,建立不同工艺参数下沉积的TiN/AlN多层膜的A1N膜厚及TiN薄膜硬度的SVR预测模型.在相同的训练与测试样本集下,将SVR所得的AlN膜厚预测值与免疫径向基函数(IRBF)神经网络的计算结果进行比较.结果表明,SVR模型训练和预测结果的平均绝对百分误差要比IRBFNN模型的小,其预测精度更高,预测效果更好.应用SVR的TiN薄膜硬度模型对PLD法沉积TiN薄膜的工艺参数进行了优化,分析了多因素对PLD法沉积TiN薄膜硬度的交互作用和影响.该方法可为人们利用PLD法沉积TiN/AlN多层功能薄膜提供科学的理论指导,具有重要的理论意义和实用价值.

关键词: 脉冲激光沉积 , TiN/AlN硬质多层膜 , 支持向量回归 , 回归分析 , 工艺优化

氧等离子体辅助脉冲激光沉积法制备PMN-PT薄膜的微观结构和电学性能

何邕 , 李效民 , 高相东 , 冷雪 , 王炜

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.11299

采用氧等离子体辅助脉冲激光沉积方法(PLD)在硅衬底上, 制备出高度(001)取向的钙钛矿相结构钛铌镁酸铅(PMN-PT)薄膜. 研究了氧等离子体辅助对PMN-PT薄膜相结构、微观形貌和电学性能的影响. 结果表明, 通过在薄膜沉积过程中引入高活性的氧等离子, 可以有效地提高PMN-PT薄膜的结晶质量和微观结构. 未采用氧等离子体辅助PLD方法制备PMN-PT薄膜的介电常数(10 kHz)和剩余极化(2Pr)分别为1484和18 μC/cm2, 通过采用氧等离子体辅助, 其介电常数和剩余极化分别提高至3012和38 μC/cm2.  

关键词: 脉冲激光沉积法 , PMN-PT thin films , microstructure , electrical properties

氧等离子体辅助脉冲激光沉积法制备PMN-PT薄膜的微观结构和电学性能

何邕 , 李效民 , 高相东 , 冷雪 , 王炜

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.11299

采用氧等离子体辅助脉冲激光沉积方法(PLD)在硅衬底上,制备出高度(001)取向的钙钛矿相结构钛铌镁酸铅(PMN-PT)薄膜.研究了氧等离子体辅助对PMN-PT薄膜相结构、微观形貌和电学性能的影响.结果表明,通过在薄膜沉积过程中引入高活性的氧等离子,可以有效地提高PMN-PT薄膜的结晶质量和微观结构.未采用氧等离子体辅助PLD方法制备PMN-PT薄膜的介电常数(10 kHz)和剩余极化(2Pr)分别为1484和18 μC/cm2,通过采用氧等离子体辅助,其介电常数和剩余极化分别提高至3012和38 μC/cm2.

关键词: 脉冲激光沉积法 , PMN-PT薄膜 , 微观结构 , 电学性能

微纳米加工技术对La213Ca1/3MnO3材料性能影响的研究

伍展文 , 李洁 , 阳运国 , 黎松林 , 郑东宁

低温物理学报

利用脉冲激光沉积(PLD)方法制备了La213Ca1/3MnO3(LCMO)外延薄膜.然后利用微纳米加工技术对LCMO薄膜材料进行了局部改造,制造出宽度仅为83纳米的弱联接结构,并对此进行了一系列的物性改变研究.发现在测量电流不变(1μA)的情况下,R~T曲线在120K附近有一个尖锐的跳变,跳变的温度区间很窄.此外,测量电流和外加磁场的增加,都能对跳变现象产生抑制作用.目前认为这种现象的产生是由于相分离的原因导致的.

关键词: 脉冲激光沉积 , 微纳米加工 , 相分离

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