王来森
,
刘小龙
,
张魁
,
彭栋梁
金属功能材料
doi:10.13228/j.boyuan.issn1005-8192.2016027
采用反应溅射的方法制备了一系列不同CrAlSiN层厚度的[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33nm]n多层膜,并系统研究了CrAlSiN层厚度对其结构、形貌、力学性能和抗氧化行为的影响.研究表明,当CrAlSiN层厚度为3.2 nm时,[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33nm]n纳米多层膜具有最优异的力学性能,此时硬度高达34 GPa.随后在空气气氛下用高温管式炉对[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33.]n多层膜进行氧化实验,氧化温度为700、800、900℃,保温时间2h.实验结果表明,800℃氧化处理后,多层膜仍能保持28.5 GPa的硬度值,显示出优秀的抗氧化能力.
关键词:
[CrAlSiN/Si3N4]n多层膜
,
硬质涂层
,
磁控溅射
,
力学性能
,
抗氧化性能
那聪
,
姜宏
,
蔡思翔
,
冯建
,
王红燕
人工晶体学报
采用磁控反应共溅射的方法,以金属Ce和Sn为金属源,成功地制备出CeOx-SnOx薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和X射线光电子能谱(XPS)等测试手段对薄膜的结构、表面形貌及成分进行了分析和表征.结果表明薄膜以岛状模式生长,随氩氧比降低,结晶性增强,出现CeO2和SnO相.此外,利用紫外-可见分光光度计对薄膜的光学性能进行了研究,测试结果表明薄膜对紫外光有极强的吸收作用.当氩氧流量比为3∶1时,紫外光平均透过率仅为5.80%,而可见光平均透过率为81.48%.
关键词:
磁控反应共溅射
,
CeOx-SnOx薄膜
,
氩氧流量比
,
紫外截止
