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利用直流磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了SbOx薄膜，对退火前后薄膜的X射线衍射(XRD)分析表明，退火后薄膜结构发生了从非晶态向晶态的转变。利用示差扫描量热法(DSC)测出不同升温速度条件下非晶态薄膜粉末的晶化峰温度，用Kissinger公式计算了材料的结晶活化能。计算结果表明，随着溅射时氧分压...

关键词: 无机非金属材料 , SbOx thin films , reactive sputtering , XRD , DSC

反应溅射非晶态氧化铝薄膜

楼翰一 , 朱圣龙 , 王福会 , 吴维(?)

金属学报

研究了平面磁控直流反应溅射法沉积氧化铝薄膜的过程。结果表明氧分压大小对反应溅射过程有决定性作用,当氧分压增大或减小过程中存在两个阈值。氧分压小于阈值为金属Al溅射区,大于阈值为氧化铝溅射区。在阈值附近总气压、溅射电压和沉积速率发生突变,溅射特性(V-J)曲线有不同规律。沉积的氧化铝膜为非晶态,高温下...

关键词: 氧化铝膜 , amorphous film , reactive sputtering

反应溅射 TiN 纳米晶薄膜的结构特征和耐蚀性?

曲彬 , 张金林 , 贺春林

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.12.007

利用直流反应溅射技术在不锈钢和硅基体上沉积了 TiN 纳米晶薄膜,采用场发射扫描电镜(FESEM)、X 射线衍射(XRD)和电化学阻抗谱(EIS)技术研究了薄膜的表面形貌、相结构和耐蚀性与偏压的关系。结果表明, TiN 薄膜的表面结构明显取决于所施加的偏压,适当提高偏压有利于获得细小、均匀、致密和光...

关键词: TiN , 纳米晶薄膜 , 反应溅射 , 微结构 , 耐蚀性

Ni/Ti 多层膜界面状态优化分析

严彪杰 , 张向东 , 白彬 , 杨飞龙

表面技术

目的：减小 Ni/ Ti 多层膜表面粗糙度,提高 Ni/ Ti 多层膜对中子束的反射率。方法采用离子束辅助沉积设备沉积 Ni/ Ti 周期性多层膜,通过不同抛光时间和不同离子能量轰击对多层膜界面进行清洗抛光；采用反应溅射法,在镀 Ti 层时使用氢气和氩气混合气为工作气体,将 H 原子掺入 Ti 层以...

关键词: 中子超镜 , Ni/ Ti 多层膜 , 粗糙度 , 离子抛光 , 反应溅射

应用等离子体辉光监控反馈控制反应气体流量制备VO2薄膜的研究

王孝 , 闫璐 , 李莹 , 曹韫真

无机材料学报 doi:10.15541/jim20150302

采用等离子体辉光监控系统(PEM)反馈控制反应溅射过程,在石英基底上制备出单斜相VO2薄膜,并研究了反馈控制下反应溅射的等离子体相对辉光强度与氧气流量的关系.实验结果表明:在不同的反应压强(0.8 Pa、0.5 Pa、0.2 Pa)下,通过调整相对辉光强度值(REI)均可稳定获得单斜相VO2薄膜,对...

关键词: 二氧化钒 , 等离子辉光监控 , 反馈控制 , 反应溅射 , 薄膜

厚度对氧化铝涂层氢渗透性能的影响?

张华 , 李帅 , 何迪 , 杜淼 , 吴云翼 , 王树茂 , 刘晓鹏 , 蒋利军

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.11.028

采用反应溅射法在316L不锈钢上制备了氧化铝(Al2 O3)涂层.研究了涂层厚度与微观结构,以及氢渗透性能之间的关系,并对涂层的热循环性进行了评估.采用 SEM 分析 Al2 O3涂层的微观形貌,采用气相氢渗透装置对涂层氢渗透行为进行评价.结果表明Al2 O3涂层的氢渗透压力指数为0．52~0．88...

关键词: 氧化铝 , 反应溅射 , 氢渗透 , 涂层厚度

反应溅射法制备高透明导电ZnO薄膜的研究

谢挺 , 祝柏林 , 杨玉婷 , 张俊峰 , 龙晓阳 , 吴隽

人工晶体学报

利用Zn/ZnO复合靶材,通过射频磁控溅射技术,在衬底温度为150℃时分别在Ar+O2和Ar+H2的混合气氛中制备ZnO薄膜,通过干涉显微镜、XRD、Hall效应测试仪、紫外-可见分光光度计研究了O2和H2流量对薄膜结构及透明导电性能的影响.结果发现,薄膜厚度随O2流量增加而明显增加而随H2流量增加...

关键词: Zn/ZnO复合靶 , 反应溅射 , 气体流量 , ZnO薄膜 , 结晶度 , 透明导电性