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高质量N型SiC单晶生长及其器件应用

杨祥龙 , 杨昆 , 陈秀芳 , 彭燕 , 胡小波 , 徐现刚 , 李赟 , 赵志飞

人工晶体学报

采用物理气相传输法在(0001)面偏向<11-20>方向4°的籽晶上生长了掺氮低电阻率碳化硅(SiC)单晶.结合碳化硅邻位面生长机制,通过优化温场设计,在近平温场下生长出了晶型稳定、微管密度低、高结晶质量的低电阻率4H-SiC单晶.在加工的“epi-ready”SiC衬底上进行了同质外延,获得了光滑的外延层表面.利用该外延材料研制了600V/10 A SiC肖特基二极管,器件的直流性能与进口衬底结果相当,反向漏电成品率高达67%.另外研制了600 V/50 A SiC肖特基二极管,器件的直流性能也达到了进口衬底水平.

关键词: 碳化硅 , 物理气相传输 , 外延 , 肖特基二极管

结构为Pt/SiNWs/n-Si/Al肖特基二极管的电子特性

朱美光 , 张健 , 王志亮 , 马殿飞

材料科学与工程学报

采用湿化学刻蚀法直接在n-Si衬底上制备了硅纳米线(Si NWs),用无电镀法在制备好的硅纳米线上修饰Pt纳米粒子作为上电极以形成结构为Pt/Si NWs/n-Si/Al的肖特基二极管。研究了无电镀参数(如氯铂酸钾K2PtCl6浓度,无电镀时间)对结构为Pt/Si NWs/n-Si/Al的肖特基二极管电流-电压的影响。从所得的电流-电压特性曲线中提取了肖特基二极管的三个特征参数(理想因子、势垒高度以及串联电阻),并分析了这三个特征参数与无电镀参数的关系,从而确定了一个制备结构为Pt/Si NWs/n-Si/Al肖特基二极管的理想条件。研究还发现所制备的肖特基二极管理想因子大于1,势垒高度~0.67eV,与金属铂(Pt)的功函数无关,这些特性可以用巴丁模型来解释。

关键词: 硅纳米线 , 肖特基二极管 , 巴丁模型

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