欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(6)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

种子层诱导溶胶-凝胶法Li,Mg掺杂ZnO薄膜的结构及光电性能研究

张利静 , 方华靖 , 严清峰 , 沈光球 , 王晓青 , 沈德忠

人工晶体学报

本文以ZnO为种子层采用溶胶-凝胶法制备了Li、Mg掺杂的氧化锌薄膜.利用XRD、SEM、PL等手段对薄膜的结构、表面形貌和发光性能进行了表征,研究了不同掺杂情况、种子层、旋涂次数对Li、Mg掺杂的ZnO薄膜性能的影响.结果表明预铺种子层、旋涂8次、在580℃下退火的条件下制得的薄膜性能最好,通过Li、Mg共掺杂使得ZnO薄膜的光致发光性能增强近5倍,近带边发射峰发生蓝移,禁带宽度变大.

关键词: 氧化锌薄膜 , 溶胶-凝胶法 , 种子层 , 旋涂 , 光致发光

集成电路湿法工艺的开发及其在铜内联结构的应用

吴洋 , 王咏云 , 万其超

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2004.04.001

集成电路工业目前多使用如氮化钛、氮化钽等氮化物作为防止铜扩散的阻挡层.然而,在氟离子存在的情况下,铜、银和钯等金属离子会与氮化物发生自发性的置换反应,并造成金属的沉积.所沉积出的钯金属尽管被认为是污染物,但其可作为后续电镀铜工艺的晶种层.此外,利用化学镀技术可成功在活化后的二氧化硅上沉积出镍钼磷薄膜,该材料具有作为铜内联阻挡层及晶种层的潜力.通过原子力显微镜(AFM)、电子显微镜(SEM)、Auger电子显微镜(AES)、X光绕射(XRD)、四点探针(4-point probe)及表面轮廓仪(Alpha-step),研究了镍钼磷薄膜的微观结构、沉积速率、组成及电阻率等.另外,通过直接镀铜及二次离子质谱仪的测量,初步确定了镍钼磷可作为阻挡层及晶种层的特性.

关键词: 置换反应 , 阻挡层 , 晶种层 , 铜内联

两步水热法制备枝干状ZnO 纳米结构的研究

周雄图 , 林锑杭 , 曾祥耀 , 张永爱 , 郭太良

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.21.012

采用两步水热法,第1步利用 Au 作为催化剂生长 ZnO 纳米杆;第2步利用醋酸锌分解成 ZnO纳米颗粒作籽晶层在ZnO 纳米杆的侧壁生长 ZnO 纳米枝条,在Si片上成功制备了枝干状 ZnO 纳米结构。利用 SEM、XRD 分别表征枝干状 ZnO 纳米结构的形貌和晶体结构,研究籽晶层、反应液浓度、反应时间等参数对枝干状ZnO 纳米结构形貌的影响。结果表明, Au作为催化剂生长的 ZnO 纳米杆具有沿(103)面择优取向生长的特性,而籽晶层对在侧壁生长 ZnO 纳米枝条至关重要。通过调节反应参数,可控制枝干状ZnO 纳米结构的形貌,当反应液浓度越小,反应时间越长,纳米枝条越细、越长。所制备的枝干状 ZnO 纳米结构具有很好的生物兼容性,可作为细胞支架材料。

关键词: 水热生长 , 枝干状 ZnO 纳米结构 , 籽晶层 , 生物兼容性

两步法制备高择优取向的AZO薄膜

方华靖 , 严清峰 , 王晓青 , 沈德忠

人工晶体学报

通过水热生长的预处理步骤在普通玻璃载玻片表面铺设种子层,然后采用旋涂法在处理好的衬底上涂覆前驱体溶胶,成功地制备出沿(002)晶面择优取向生长的Al掺杂的ZnO薄膜(AZO)薄膜.利用X射线衍射分析、扫描电镜表征薄膜形貌,并测定薄膜的透射率及电阻率.研究了种子层对AZO薄膜结晶性能、表面形貌及光电性能的影响.结果表明:种子层减少了薄膜生长初期的非晶成份,促进了薄膜的晶化.薄膜在可见光范围内平均透射率超过85%,导电性能也有所改善.

关键词: AZO薄膜 , 种子层 , 溶胶凝胶 , 光电性能

石墨衬底上多晶硅厚膜的生长及性质分析

杨博 , 陈诺夫 , 孔凡迪 , 牟潇野 , 陶泉丽 , 白一鸣 , 陈吉堃

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.04.014

以石墨片为衬底,利用磁控溅射技术生长多晶硅籽晶层,退火处理后用 CVD 制备多晶硅厚膜。XRD测试结果表明,在籽晶层上外延多晶硅厚膜具有高度的(220)取向,这说明外延层的择优取向延续了籽晶层的取向。SEM测试结果表明,石墨片上多晶硅外延层生长良好,说明石墨片作为廉价衬底之一,有望投入工业化生产,以降低太阳能电池的制作成本。

关键词: 石墨 , 籽晶层 , 择优取向 , 退火

种子层及掺杂浓度对溶胶-凝胶法制备ZnO∶Al薄膜光电性能的影响

彭寿 , 汤永康 , 王芸 , 金良茂 , 甘治平 , 王东 , 王萍萍 , 操芳芳

硅酸盐通报

本文采用溶胶-凝胶法以提拉的方式在普通玻璃基底上制备出n型掺杂具有优良光电性能的氧化锌掺铝(AZO)薄膜,并以磁控溅射AZO薄膜为种子层引导液相法所制备AZO薄膜生长.Al掺杂浓度区间为0.25at%~5.00at%.通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、轮廓仪、方块电阻测试仪、霍尔效应测试仪、紫外-可见-红外分光光度计分别研究了薄膜物相、微观结构、膜厚及光电性能,进一步分析了Al掺杂浓度、种子层对薄膜光电性能的影响.结果表明:经10次提拉所制备薄膜可见光透过率85%以上.Al掺杂浓度、种子层的引入对AZO薄膜的光电性能有重要影响.无种子层时,掺杂浓度为0.50at%的AZO薄膜在5% H2、95%N2还原气氛下于550℃保温60 min得到最优电学性能,方块电阻约为166 Ω/□,电阻率约为1.99×10-3 Ω·cm;预镀AZO种子层所制备薄膜方块电阻下降到约42Ω/□,电阻率下降到约7.56×10-4Ω·cm.

关键词: Al掺杂浓度 , 种子层 , 铝掺杂氧化锌薄膜 , 光电性能

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词