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磁控溅射 WO 3薄膜的制备及其 NO 2气敏特性研究

沈岩柏 , 范安锋 , 张宝庆 , 曹先敏 , 魏德洲 , 刘文刚 , 高淑玲

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.07.026

采用直流反应磁控溅射法,在室温条件下通过改变放电气体压强制备出具有不同膜密度的 WO3薄膜。结构表征结果表明,由单斜晶 WO3纳米颗粒组成的薄膜具有层状结构,随着放电气体压强的增加,膜密度呈下降趋势。气敏特性研究结果表明,由 WO3薄膜制备而成的气体传感器在工作温度为200℃时获得对NO2气体的最大灵敏度,并在50~300℃的工作温度范围内对 NO2气体均展现出良好的气敏特性。在相同的检测条件下,气体灵敏度随着膜密度的减少而增加。

关键词: WO 3 , 薄膜 , 磁控溅射 , NO 2 , 气敏特性

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