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范文娟 , 邹敏 , 常会 , 霍红英 , 万书权
材料热处理学报
利用磁控溅射法在FTO玻璃上制备了SnS薄膜.采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和紫外可见分光光度计对不同溅射参数下制备的SnS薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性能进行研究,确定出制备SnS薄膜的最优溅射参数.结果表明:溅射功率为28 W,沉积气压在2.5 Pa时,制备出的SnS薄膜在(111)晶面具有...
关键词: 磁控溅射 , SnS薄膜 , 溅射参数 , 禁带宽度