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TiN/Si3N4纳米多层膜硬度对Si3N4层厚敏感性的研究

赵文济 , 孔明 , 乌晓燕 , 李戈扬

金属学报

通过反应磁控溅射制备了一系列不同Si3N4层厚的TiN/Si3N4纳米多层膜，利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能，研究了其力学性能随Si3N4层厚微小改变而显著变化的原因。结果表明，在TiN调制层晶体结构的模板作用下，溅射态以非晶存在的S...

关键词: TiN/Si3N4纳米多层膜 , epitaxial growth , crystallization , superhard effect