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石杉碱甲印迹聚合物的制备、表征及其吸附性能

李志平 , 李辉 , 刘芬 , 逯翠梅

应用化学 doi:10.3724/SP.J.1095.2013.20473

以硅胶为牺牲载体,石杉碱甲为模板分子,甲基丙烯酸为功能单体,二乙烯基苯为交联剂,偶氮二异丁腈为引发剂,首次制备了石杉碱甲分子印迹聚合物,并用红外光谱、扫描电子显微镜和热重分析研究了印迹聚合物的结构特征,用静态吸附法和Scatchard分析法研究了印迹聚合物的识别效能和表面位点分布特征.结果表明,石杉碱甲印迹聚合物对模板分子具有较好的选择吸附性能,选择系数为1.399.Scatchard分析表明,印迹聚合物基体中主要存有两类吸附位点,对高亲和位点:平衡离解常数Kd1=0.776 g/L,最大表观结合量Qmax1=0.213 mg/g;对低亲和位点:平衡离解常数Kd2 =0.169 g/L,最大表观结合量Qmax=0.832 mg/g.当该聚合物用于微固相萃取蛇足石杉粗提液中的石杉碱甲时,石杉碱甲回收率为93.5%,显示了较好的富集效果.

关键词: 分子印迹聚合物 , 表面聚合 , 石杉碱甲 , 硅胶 , 吸附

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