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高温后退火处理对聚合物光伏电池阴极界面层的影响

赵云 , 王兴涌 , 尹文萱

高分子材料科学与工程

分别采用LiF和2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉(BCP)作为聚3-己基噻吩(P3HT)/[6,6]-苯基-C61-丁酸甲脂(PCBM)体系聚合物光伏电池阴极界面层,研究了高温后退火处理对不同界面层器件性能的影响。研究发现,LiF界面层的引入,在活性层和阴极界面之间形成了较强的偶极作用,从而改善了电池的性能,进一步高温热退火处理后仍能保持良好的界面作用,使器件的能量转换效率得到了进一步的提高。然而BCP界面层的引入,虽然阻挡了金属电极Al到PCBM的电子转移,导致复合减小,提高了器件的开路电压,但是在进一步高温后退火之后,BCP界面层的完整性遭到破坏,因此使得器件的能量转换效率降低。

关键词: 聚合物光伏电池 , 热退火 , 阴极界面层 , 开路电压 , 能量转换效率

利用可控In气氛下热处理工艺制备Cd0.9Zn0.1Te:In

刘洪涛 , 桑文斌 , 李万万 , 闵嘉华 , 李刚

稀有金属材料与工程

利用控制In气氛下的热处理工艺成功地制备了CdZnTe:In.不同In压下(Cd,Zn分压保持在平衡分压)的热处理实验结果表明:热处理后样品的电阻率可从6.75×105 Ω·cm提高到108~1010Ω·cm;并且随着In压的增加,导电类型逐渐由p型转变为n型.热处理后样品的电阻率变化特征可以由In的扩散和施主缺陷InCd、受主缺陷VCd之间的补偿作用来很好地解释.利用扩散理论建立了CdZnTe:In的电阻率物理模型.利用热处理后样品的电阻率数据,计算了在873,973和1073 K时In原子在CZT晶体中的有效扩散系数DIn,分别为3.455×10-11,2.625×10-10和5.17×10-9cm2/s.将扩散数据经过拟合后得到了DIn的表达式:1.35exp(-1.85 eV/kT)cm2/s(873~1073 K).

关键词: CdZnTe , 热处理 , 电阻率 , 扩散系数

SOI基上制备CuO 纳米线

常敬先 , 李海蓉 , 马国富 , 王鹏

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.增刊(Ⅰ).037

在SOI基上制备光电纳米器件具有良好的光电集成应用前景,通过铜膜生长法在 SOI 基上制备了形貌为类针状的 Cu(OH)2前驱体纳米线,并采用热处理法600℃条件下成功制备了 CuO 纳米线。通过扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X 射线衍射测试(XRD)对样品结构、形貌进行了表征。 SEM、TEM测试结果表明,Cu(OH)2前驱体纳米线结构一致,尺寸均匀,表面光滑。在 Cu(OH)2前驱体纳米线上二次生长的CuO 纳米线具有类蒲草状细长光滑的结构, CuO纳米线直径约为80~100 nm,长度约为10μm, CuO 纳米线结晶性良好。

关键词: SOI , 铜膜生长法 , 前驱体 , 热处理 , CuO 纳米线

热退火对离子注入制备Au纳米颗粒生长和光学性能的影响

周小东 , 周思华 , 孙现科

材料热处理学报

利用金属蒸发真空多弧离子源(MEVVA源)注入机,将Au离子注入到高纯石英玻璃衬底中来制备Au纳米颗粒,Au离子注入的加速电压分别为20、40和60 kV,注入剂量为1×1017 ions/cm2,随后将注入样品在普通管式退火炉中700 ~ 1000℃退火处理.研究了注入条件和热退火参数对Au纳米颗粒的形成、生长、分布以及光学性能的影响.采用光学吸收谱、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对注人样品的光学性能、表面形貌和微观结构进行了测试和表征.实验结果表明,采用该低压离子注入结合热退火工艺的方法,所制备的Au纳米颗粒具有很强的局域表面等离子体共振特性,同时该方法也为制备尺寸和分布可控的Au纳米颗粒提供了一些新的参考途径.

关键词: 热退火 , 离子注入 , Au纳米颗粒 , 生长 , 光学性能

退火处理对铅基弛豫型铁电体介电、压电性能的影响

夏峰 , 姚熹

无机材料学报

铅基弛豫型铁电体的峰值介电常数和压电性能在退火后有较大提高.在PMN-PT陶瓷中,kp由58%提高到66%,峰值介电常数由30900提高到37200,d33达到530pC/N.在PZN-PT-BT陶瓷中,kp由35%提高到51%,峰值介电常数km由11400提高到29000,d33由347PC/N提高到624pC/N.这种改善可能与晶界玻璃相的消除以及畴壁运动等因素有关

关键词: 退火处理 , relaxor ferroelectrics , dielectric and piezoelectric properties

直流磁控反应溅射制备IrO2薄膜

王世军 , 丁爱丽 , 仇萍荪 , 何夕云 , 罗维根

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2000.04.027

为研究氧化铱(IrO2)对PZT铁电薄膜疲劳性能的影响,利用直流(DC)磁控反应溅射(sputtering)工艺成功地在SiO2/Si(100)衬底上制得了高度取向的IrO2薄膜. 并在其上制成PZT铁电薄膜. 讨论了溅射参数(溅射功率、Ar/O2比、衬底温度)以及退火条件对氧化铱薄膜的结晶、取向和形态的影响.

关键词: 氧化铱薄膜 , 直流磁控反应溅射 , 热退火

Ti+离子注入结合热退火法制备TiO2纳米薄膜研究

周小东

原子核物理评论 doi:10.11804/NuclPhysRev.32.02.242

利用金属蒸发真空多弧离子源(MEVVA源)注入机将Ti+离子注入到高纯石英玻璃衬底中,离子注入的加速电压为20 kV,注入剂量为1.5×1017和3×1017 ions/cm2,将注入样品在氧气气氛下进行热退火处理,制备了TiO2纳米薄膜。采用光吸收谱、拉曼光谱、X射线光电子能谱、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对注入样品进行了测试和表征,分析了TiO2薄膜的形成机理。在热退火过程中衬底中离子注入的Ti原子向外扩散到衬底表面被氧化形成了TiO2。TiO2的形成、晶粒尺寸和晶体结构依赖于热退火温度,而形成TiO2薄膜的厚度主要受离子注入剂量和热退火时间的影响。实验结果表明,该方法制备的TiO2纳米薄膜将有望应用于制备具有光催化、自清洁等特殊性能的自清洁玻璃。

关键词: 离子注入 , 热退火 , TiO2

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