欢迎登录材料期刊网
陈岩 , 黄荣芳 , 闻立时 , 师昌绪
材料研究学报
本文用热丝CVD 法在氮化硅复合陶瓷及Sialon 陶瓷上沉积了金刚石薄膜,用X 射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、表面形貌仪、划痕实验仪对所形成的膜及基体进行了分析。初步探讨了膜与基材的附着性影响因素。
关键词: 热丝CVD , diamond film , thermal expand coeffcient
