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热氧化温度对非平衡磁控溅射TiN镀层的影响

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2009.04.002

通过SEM和XRD法,研究不同热氧化温度下闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备的TiN镀层形貌、相结构及性能的变化.结果表明:非平衡磁控溅射离子镀TiN镀层在700℃以下性能基本稳定,具有良好的热氧化性能,尽管600℃时生成少量TiO_2相,但600℃之前断口形貌及组织结构保持稳定;700℃时镀层的单位质量氧化增重率迅速增加,氧化曲线出现拐点,镀层失效.

关键词: TiN镀层 , 热氧化 , 非平衡磁控溅射

二步热氧化法制备SnO2薄膜的特性

李栋宇 , 刘贵昂 , 潘喜诚 , 邵乐喜

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.04.011

氧化温度有很大的联系.通过UV-VIS透过光谱得知随着氧化温度的升高,SnO2薄膜的光透过率也升高,光学禁带宽度也随着氧化温度的升高而升高.这种制备SnO2薄膜的工艺具有适于大面积制造,低成本,过程容易控制等很多优点.

关键词: SnO2薄膜 , 热氧化法 , 蒸发

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