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原子层沉积方法制备低温多层Al2 O3/TiO2复合封装薄膜的研究

周忠伟 , 李民 , 徐苗 , 邹建华 , 王磊 , 彭俊彪

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163106.0532

原子层沉积(ALD)方法可以制备出高质量薄膜，被认为是可应用于柔性有机电致发光器件(OLED)最有发展前景的薄膜封装技术之一.本文采用原子层沉积(ALD)技术，在低温(80℃)下，研究了 Al2 O3及TiO2薄膜的生长规律，通过钙膜水汽透过率(WVTR)、薄膜接触角测试等手段，研究了不同堆叠结构的...

关键词: 有机电致发光器件 , 薄膜封装 , 原子层沉积 , 水汽透过率