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大气等离子喷涂制备低氧含量厚钨涂层

张小锋 , 于磊 , 杨震晓 , 邓春明

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2014.05.005

采用等离子球化技术对不规则钨粉进行球化,以还原后的球形钨粉为原料于CuCrZr合金基体上在氮气保护下,用大气等离子喷涂制备聚变堆用厚钨梯度涂层.利用X射线衍射(XRD)对钨粉和涂层进行物相分析,采用扫描电镜(SEM)对钨粉和涂层微观形貌进行观察,使用O/N测量仪、激光热导仪和拉伸试验机分别对涂层氧含量、热导率和结合强度进行测量,用X射线光电子能谱(XPS)对钨涂层中钨元素的价态进行分析.结果表明:在氮气保护下,采用大气等离子喷涂成功制备了以Cu-Mo/Mo-W为过渡的约2mm厚钨涂层,其结合强度为15.2MPa.相对真空热处理而言,H2还原热处理能显著降低等离子球化钨粉和钨涂层的氧含量,H2处理后涂层中氧含量从0.93%(质量分数,下同)降至0.17%.在钨涂层制备过程中由于存在对流氧化和扩散氧化,导致涂层存在微量的氧化物,其中氧化物主要以WO2.72和WO3存在.

关键词: 钨粉 , 等离子球化 , 大气等离子喷涂 , 钨涂层

金刚石粉体表面CVD法镀钨的工艺研究

王元元 , 马捷 , 李辉 , 魏建忠 , 黄新壮

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.02.015

目的 增强金刚石与基体的界面结合能力.方法 首先对金刚石粉体进行"除有机物→除油→粗化→烘干"处理.采用自制化学气相沉积装置,研究了以H2和WF6为反应气体在金刚石表面CVD法镀覆钨工艺.使用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、透射电镜(SEM)等检测方法,分析了金刚石粉体镀层钨的微观形貌、成分、组织结构,对镀层包覆金刚石粉体相关性能进行了初步测试.结果 在粒径约为223.6μm的金刚石表面获得均匀致密镀覆层的最佳工艺参数为:沉积温度670℃,沉积时间2 min,H2通入量1 L/min,WF6消耗量2 g/min.沉积温度为580℃时,获得的均匀致密钨镀层的厚度为150 nm,且镀层杂质含量较少.将镀覆钨的金刚石和普通金刚石分别与铜粉热压烧结后进行抗弯强度测试,结果 显示含镀覆钨的金刚石试样抗弯强度提高了38.6%.加入镀钨金刚石压块的热膨胀系数比加入普通金刚石的有所降低,并且加入的镀钨金刚石粉体越多,压块的热膨胀系数越低.结论 镀钨后的金刚石颗粒的表面性能得到改善,与基体的结合能力得到提高.

关键词: 化学气相沉积 , 金刚石粉体 , 钨镀覆层 , 抗弯强度 , 热膨胀系数

双向脉冲电镀工艺参数对Na_2WO_4-ZnO-WO_3熔盐镀钨层织构的影响

马瑞新 , 林炜 , 吴中亮 , 康勃 , 王目孔

材料科学与工艺

采用双向脉冲电镀工艺镀钨,并对工艺参数影响镀钨层织构进行研究.首次采用(222)不完整极图对钼片基体上的钨镀层织构进行研究.结果表明:钨镀层具有为{001}<110>织构;工艺条件的变化对镀层织构的影响主要体现在织构的散漫程度随着脉冲周期和迭加直流分量的增加而增加.金相和SEM观察均表明镀层为微观不平整表面,并借助表面的数据对钨镀层的形貌进行解释.

关键词: Na_2WO_4-ZnO-WO_3熔盐 , 镀钨层 , 脉冲镀

钨涂层面对等离子体材料损伤演变行为

种法力 , 陈俊凌 , 郑学斌

稀有金属

利用等离子体喷涂技术制备了钨涂层面对等离子体材料,并对涂层基本性能进行了表征,主要包括气孔率、相对密度、结合强度、热导率、硬度分布,进而研究主动水冷钨涂层在热负荷服役条件下的损伤演变行为.研究发现,直接水冷钨涂层内部层与层之间的开裂、分层是涂层失效的原因,损伤演变过程为柱状晶体再结晶并长大、层间微裂纹出现、裂纹扩展和气孔出现、最后材料分层、失效.间接水冷钨材料的热负荷性能受到很大限制,且疲劳性能降低,失效形式是涂层开裂或脱落,甚至铜基体整体熔化.

关键词: 钨涂层 , 等离子体喷涂技术 , 核聚变

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